盘条抛光机抛光时需要注意的问题

盘条抛光机抛光时，试样的磨削表面与抛光盘应绝对平行，且抛光盘上的压力应均匀轻，注意防止试样飞出，因压力过大而产生新的磨削痕迹。同时，试样应沿旋转板的半径来回旋转和移动，以避免抛光织物局部磨损过快。当湿度过高时，抛光痕迹的效果会减弱，试样中的硬相会升高，钢中的非金属夹杂物和铸铁中的石墨相会“拖尾”。当湿度过低时，摩擦加热会使试样升温，润滑会减少，磨削表面会失去光泽，甚至出现黑点，轻合金会损伤表面。为了达到粗抛的目的，要求转速较低，不超过500r/min;抛光时间应该比去除划痕的时间长，因为变形层也应该被去除。粗抛光后，磨削表面光滑，但无光泽。显微镜下磨痕均匀细小，需精磨消除。抛光时可适当提高光盘的速度，抛光时间较好地消除了粗糙抛光的损伤层。抛光后的表面像镜子一样光亮，在显微镜下看不到划痕，但在相位对比光照下仍能看到划痕。抛光机的质量严重影响样品的结构，已逐渐引起专家的重视。近年来，国内外对抛光机的性能进行了大量的研究工作，开发了许多新型抛光机和新一代抛光设备。