抛光机操作的关键是要设法得到大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响终观察到的组织，即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。

抛光机的关键是要尽量达到大的抛光速度，以便尽快清除损坏层。同时，抛光损伤层不会影响到终观察到的组织。前者要求使用较粗糙的研磨剂，以确保有一个大的抛光速度来去除层层的损伤层，但抛光损伤层也很深。后者要求使用薄的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光率较低。